Is entanglement dispensable in quantum lithography? / D'ANGELO M; GIULIANO SCARCELLI; YANHUA SHIH. - 6305(2006), pp. 63050X/1-63050X/10. ((Intervento presentato al convegno SPIE Optics+Photonics - Quantum Communications and Quantum Imaging IV tenutosi a San Diego, CA, USA nel 13-17 Agosto 2006.
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Titolo: | Is entanglement dispensable in quantum lithography? |
Autori: | |
Data di pubblicazione: | 2006 |
Rivista: | |
Citazione: | Is entanglement dispensable in quantum lithography? / D'ANGELO M; GIULIANO SCARCELLI; YANHUA SHIH. - 6305(2006), pp. 63050X/1-63050X/10. ((Intervento presentato al convegno SPIE Optics+Photonics - Quantum Communications and Quantum Imaging IV tenutosi a San Diego, CA, USA nel 13-17 Agosto 2006. |
Handle: | http://hdl.handle.net/11586/16168 |
ISBN: | 9780819463845 |
Appare nelle tipologie: | 4.1 Contributo in Atti di convegno |
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