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Different plasma processes were investigated to obtain coatings characterized by N- and O-functional groups at their surface. From the literature, big efforts are evident devoted to designing new surfaces with chemical composition and chemical-physical properties tightly controlled. This paper demonstrates how it is possible to obtain coatings with acid and basic properties at different extent, by simply adjusting the acrylic acid/allylamine chemical composition of the gas feed in a plasma deposition process. The deposited films exhibit tuneable acid-base properties, very attractive to manufacture sensors, and biomaterials, and for applications in tissue engineering field.
PE-CVD of acid/base coatings from Acrylic Acid and Allylamine vapors
SARDELLA E;FAVIA, Pietro;DILONARDO E;PETRONE L;D'AGOSTINO R.
2007
Abstract
Different plasma processes were investigated to obtain coatings characterized by N- and O-functional groups at their surface. From the literature, big efforts are evident devoted to designing new surfaces with chemical composition and chemical-physical properties tightly controlled. This paper demonstrates how it is possible to obtain coatings with acid and basic properties at different extent, by simply adjusting the acrylic acid/allylamine chemical composition of the gas feed in a plasma deposition process. The deposited films exhibit tuneable acid-base properties, very attractive to manufacture sensors, and biomaterials, and for applications in tissue engineering field.
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: http://hdl.handle.net/11586/12416
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simulazione ASN
Il report seguente simula gli indicatori relativi alla propria produzione scientifica in relazione alle soglie ASN 2021-2023 del proprio SC/SSD. Si ricorda che il superamento dei valori soglia (almeno 2 su 3) è requisito necessario ma non sufficiente al conseguimento dell'abilitazione. La simulazione si basa sui dati IRIS e sugli indicatori bibliometrici alla data indicata e non tiene conto di eventuali periodi di congedo obbligatorio, che in sede di domanda ASN danno diritto a incrementi percentuali dei valori. La simulazione può differire dall'esito di un’eventuale domanda ASN sia per errori di catalogazione e/o dati mancanti in IRIS, sia per la variabilità dei dati bibliometrici nel tempo. Si consideri che Anvur calcola i valori degli indicatori all'ultima data utile per la presentazione delle domande.
La presente simulazione è stata realizzata sulla base delle specifiche raccolte sul tavolo ER del Focus Group IRIS coordinato dall’Università di Modena e Reggio Emilia e delle regole riportate nel DM 589/2018 e allegata Tabella A. Cineca, l’Università di Modena e Reggio Emilia e il Focus Group IRIS non si assumono alcuna responsabilità in merito all’uso che il diretto interessato o terzi faranno della simulazione. Si specifica inoltre che la simulazione contiene calcoli effettuati con dati e algoritmi di pubblico dominio e deve quindi essere considerata come un mero ausilio al calcolo svolgibile manualmente o con strumenti equivalenti.