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New challenges of life science research make nanostructured polymeric surfaces, chemically and spatially resolved, very attractive for biomedical purposes. High costs and unsuitability of polymers processed by the traditional techniques lead to new research routes. In this work, the production of nanostructured polystyrene substrates combining Colloidal lithography and cold plasma processes is shown. Colloidal nanoparticles self-assemble into a regular lattice on the polymers, and are used as physical masks in lithographic processes. Ammonia plasma treatments have been used to improve the suitability of the polymer surface for the entire process. Plasma etching with Ar/O(2) discharges have been applied to transfer the patterns.
Colloidal monolayers combined with cold plasmas: a versatile nanofabrication tool
New challenges of life science research make nanostructured polymeric surfaces, chemically and spatially resolved, very attractive for biomedical purposes. High costs and unsuitability of polymers processed by the traditional techniques lead to new research routes. In this work, the production of nanostructured polystyrene substrates combining Colloidal lithography and cold plasma processes is shown. Colloidal nanoparticles self-assemble into a regular lattice on the polymers, and are used as physical masks in lithographic processes. Ammonia plasma treatments have been used to improve the suitability of the polymer surface for the entire process. Plasma etching with Ar/O(2) discharges have been applied to transfer the patterns.
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: http://hdl.handle.net/11586/12415
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simulazione ASN
Il report seguente simula gli indicatori relativi alla propria produzione scientifica in relazione alle soglie ASN 2021-2023 del proprio SC/SSD. Si ricorda che il superamento dei valori soglia (almeno 2 su 3) è requisito necessario ma non sufficiente al conseguimento dell'abilitazione. La simulazione si basa sui dati IRIS e sugli indicatori bibliometrici alla data indicata e non tiene conto di eventuali periodi di congedo obbligatorio, che in sede di domanda ASN danno diritto a incrementi percentuali dei valori. La simulazione può differire dall'esito di un’eventuale domanda ASN sia per errori di catalogazione e/o dati mancanti in IRIS, sia per la variabilità dei dati bibliometrici nel tempo. Si consideri che Anvur calcola i valori degli indicatori all'ultima data utile per la presentazione delle domande.
La presente simulazione è stata realizzata sulla base delle specifiche raccolte sul tavolo ER del Focus Group IRIS coordinato dall’Università di Modena e Reggio Emilia e delle regole riportate nel DM 589/2018 e allegata Tabella A. Cineca, l’Università di Modena e Reggio Emilia e il Focus Group IRIS non si assumono alcuna responsabilità in merito all’uso che il diretto interessato o terzi faranno della simulazione. Si specifica inoltre che la simulazione contiene calcoli effettuati con dati e algoritmi di pubblico dominio e deve quindi essere considerata come un mero ausilio al calcolo svolgibile manualmente o con strumenti equivalenti.
